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英國Ossila小型狹縫涂布儀結構緊湊,價格實惠,使用簡單,準確度高。 對于那些希望在小型實驗室中擴大實驗工藝的用戶來說,它是理想之選。與卷對卷和片對片沉積工藝相兼容,狹縫涂布是用于可擴展沉積薄膜的技術之一。其廣泛的加工窗口確保穩定、無缺陷的沉積,適用于各種粘度的溶液。薄膜均勻度高,準確且可重復,厚度可通過改變流速和基材速度來控制。
英國Ossila公司勻膠旋涂儀,操作簡單,方便實用,旋涂均勻,結構小巧緊湊,為實驗室提供了理想的解決方案,其采用創新設計的非真空卡盤式旋涂吸盤,無需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果。勻膠旋涂儀可對大小不同規格的基材都可進行旋涂,尤其是對超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到旋涂效果。不會出現真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現象,影響涂層的均勻性。勻膠旋涂儀廣泛應用于微電子、半導體、制版、新能源、生物材料、光學及表面涂覆等工藝。
英國Ossila SpinProcessor,操作簡單,方便實用,旋涂均勻,結構小巧緊湊,為實驗室提供了理想的解決方案,其采用創新設計的非真空卡盤式旋涂吸盤,無需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果。可對大小不同規格的基材都可進行旋涂,尤其是對超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到完美的旋涂效果。不會出現真空吸盤旋涂較薄的基材襯
英國Ossila-Spin Coater操作簡單,方便實用,旋涂均勻,結構小巧緊湊,為實驗室提供了理想的解決方案,其采用創新設計的非真空卡盤式旋涂吸盤,無需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果。可對大小不同規格的基材都可進行旋涂,尤其是對超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到較好的旋涂效果。不會出現真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現象,影響涂層的均勻性。
UV Ozone Cleaner是一種簡單,經濟,快速的材料表面清洗設備,只需把樣品放置到樣品盤上,關上艙門,設置時間,并按運行,就可以了,能快速去除大多數無機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時,紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面,只需要在傳統清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得!
英國Ossila旋涂機/鍍膜機,方便實用,結構小巧緊湊,占地空間小,為實驗室提供了理想的解決方案,采用創新設計的旋涂盤,無需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果,操作簡單方便,旋涂均勻,可對大小不同規格的基片進行旋涂。 Ossila旋涂機內置調整水平裝置,Z大限度的保證旋涂均勻。
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